ہالر لیپت ڈسک تتلی والو

ہالر لیپت ڈسک تتلی والو انتہائی کیمیائی ماحول کے لئے انجنیئر ہے ، اعلی سنکنرن مزاحمت کو حاصل کرنے کے لئے ڈسک کی سطح پر ہالر (ای سی ٹی ایف ای) کوٹنگ کا استعمال کرتے ہوئے۔ خدمت کے درجہ حرارت کی حد کے ساتھ -40 ℃ سے 150 ℃ (مخصوص عارضی طور پر ایپلی کیشن کو بھی نشست کے مواد پر غور کرنے کی ضرورت ہے) اور 0.5-1.2 ملی میٹر کی موٹائی۔

ہالر کوٹنگ کا بنیادی فنکشن

ہالر (ایتھیلین-کلوروٹرفلوورویتھیلین کوپولیمر ، ایکٹفی) ایک اعلی کارکردگی کا فلوروپولیمر ہے جو 0.5 ~ 1.2 ملی میٹر کی موٹائی کے ساتھ گھنے حفاظتی پرت کی تشکیل کے لئے الیکٹرو اسٹاٹک اسپرے کے عمل کے ذریعے تتلی پلیٹ کی سطح کو یکساں طور پر ڈھانپتا ہے۔ ہالر لیپت ڈسک تتلی والو میں ، اس کوٹنگ کے بنیادی افعال میں شامل ہیں:

1. کیمیائی سنکنرن کے خلاف مزاحمت: یہ 98 ٪ سلفورک ایسڈ ، 37 ٪ ہائیڈروکلورک ایسڈ ، مضبوط الکالی (جیسے 50 ٪ NaOH) اور نامیاتی سالوینٹس (جیسے ایسیٹون ، زائلین) کا مقابلہ کرسکتا ہے ، اور سنکنرن کی شرح 0.01 ملی میٹر/سال سے کم ہے۔

2. درجہ حرارت کی مزاحمت: طویل مدتی استعمال درجہ حرارت کی حد -40 ℃ ~ 150 ℃ ، 180 ℃ تھرمل جھٹکا کے لئے قلیل مدتی مزاحمت ؛

3. کم پارگمیتا: سالماتی ڈھانچہ گھنے ہے ، جس سے تتلی پلیٹ کے دھات کے ذیلی ذیلی حصے کو درمیانے درجے کی دخول کی وجہ سے کھرچنے سے روکتا ہے۔

4. مزاحمت اور اینٹی اسٹکنگ پہنیں: سطح کے رگڑ کا گتانک 0.3 تک کم ہے ، جو دانے دار میڈیا کی آسنجن کو کم کرتا ہے اور بحالی کے چکر کو بڑھا دیتا ہے۔

5. پی ٹی ایف ای یا پی پی کوٹنگز کے مقابلے میں ، ہالر کی مکینیکل طاقت میں 50 فیصد سے زیادہ اضافہ ہوتا ہے ، خاص طور پر بار بار کھلنے اور بند ہونے والے حالات کے تحت ، جو کوٹنگ کو کریک اور گرنے سے روک سکتا ہے۔

ساختی اصلاح:

ہالر کوٹنگ کی جسمانی خصوصیات کو اپنانے کے لئے ، اورھالر لیپت ڈسک تیتلی والو نے ہدف ڈیزائن کو اپنایا:

1. تیتلی پلیٹ کی صحت سے متعلق مشینی: بیس میٹریل 316L سٹینلیس سٹیل یا ڈوپلیکس اسٹیل سے بنا ہے ، اور سی این سی ٹرننگ کے ذریعہ سطح کی کھردری ≤ra3.2μm ہے ، جو کوٹنگ کے لئے یکساں آسنجن کی بنیاد فراہم کرتی ہے۔ کوٹنگ کے تناؤ کے حراستی سے بچنے کے لئے تتلی پلیٹ کے کنارے گول ہیں۔

2. دو طرفہ سگ ماہی کا نظام: ای پی ڈی ایم یا ایف کے ایم نرم سگ ماہی والو سیٹ کے ساتھ ، یہ ہالر کوٹنگ کے ساتھ ایک "سخت-لچکدار جامع" سگ ماہی انٹرفیس تشکیل دیتا ہے ، جس سے ≤PN16 (آئی ایس او 5208 معیار کے مطابق) کے دباؤ پر دو طرفہ صفر رساو حاصل ہوتا ہے۔

3. ISO5211 ڈرائیو موافقت: والو STEM کا سب سے اوپر ایک مربع شافٹ انٹرفیس (ISO5211 F05-F10 معیار کے مطابق) سے لیس ہے ، جو نیومیٹک/الیکٹرک ایکچوایٹرز کے ساتھ براہ راست انسٹال کیا جاسکتا ہے ، اور ٹارک آؤٹ پٹ کی غلطی ≤5 ٪ ہے۔

قابل اطلاق میڈیا اور عام منظرنامے

ہالر لیپت ڈسک تیتلی والو مندرجہ ذیل میڈیا کے لئے ڈیزائن کیا گیا ہے:

1. مضبوط تیزاب/الکالی: جیسے الیکٹروپلاٹنگ حل (کرومک ایسڈ پر مشتمل) ، کلور الکالی عمل میں گیلے کلورین گیس ، فاسفورک ایسڈ کی توجہ ؛

2. نامیاتی سالوینٹس: پیٹروکیمیکل انٹرمیڈیٹس جیسے بینزین ، ایسٹرز ، کیٹونز ، وغیرہ۔

3. آکسائڈائزنگ میڈیا: ہائیڈروجن پیرو آکسائیڈ (حراستی $50 ٪) ، سوڈیم ہائپوکلورائٹ حل ؛

4. اعلی طہارت سیال: دواسازی کی صنعت میں سی آئی پی/ایس آئی پی صفائی کا ایجنٹ ، الٹراپر پانی کی ترسیل۔